日前，由哈尔滨工业大学、北京大学和美国代顿大学共同主办，并得到中国光学学会(COS)和中国国家自然科学基金委员会支持的“2009年纳米光子学国际会议”在哈尔滨召开。这次国际会议是美国光学学会的主题会议之一。

　　纳米光子学是光子学与纳米技术相结合的交叉新兴学科，是近期国内外研究的热点领域，已取得众多科技成果。本次会议为关心目前纳米光子学研究发展的各国科学家和研究人员提供一个交流的平台，同时也为从事纳米光子学及相关领域的科研人员详尽介绍和深入讨论与纳米光子学有关的材料与器件的制备、测试和表征，纳米尺度光学成像，纳米生物光子学等方面的最新进展提供了交流、切磋和探讨的机会。

　　本次会议的主题包括纳米光子学材料与器件专题、纳米加工技术专题、纳米光学成像和纳米表征专题以及纳米光子学的应用专题。会议汇聚了国内外众多纳米光子学领域的著名专家和学者，来自世界17个国家和地区的200多名代表参加会议。这次会议对加强纳米光子学领域的国际学术交流与协作，促进相关领域交叉学科建设具有重要意义。